Notebookcheck Logo

Intel verwerkt 30.000 wafers met nieuwe High-NA EUV-lithografiemachines

Intel meldt succes met ASML's High-NA EUV-lithografiemachines. Afgebeeld: Een Intel Xeon chip. (Afbeeldingsbron: Intel)
Intel meldt succes met ASML's High-NA EUV-lithografiemachines. Afgebeeld: Een Intel Xeon chip. (Afbeeldingsbron: Intel)
Intel heeft met succes de High-NA EUV-lithografiemachines van ASML geïntegreerd en verwerkt 30.000 wafers in één kwartaal. Dit betekent een strategische ommekeer ten opzichte van Intel's eerdere vertraging van zeven jaar met eerdere EUV-technologie, waarbij nu een resolutie van 8 nm wordt bereikt die de complexiteit van de productie vermindert.

Intel https://www.reuters.com/technology/intel-says-first-two-new-asml-machines-are-production-with-positive-results-2025-02-24/#:~:text=At%20a%20conference%20in%20San,aperture%20(NA)%20lithography%20machines erin geslaagd om twee ultramoderne ASML High-NA EUV-lithografiemachines in zijn productielijn te integreren, met een gerapporteerde hogere betrouwbaarheid in vergelijking met eerdere modellen. Steve Carson, een van Intels topingenieurs, deelde mee dat het bedrijf met deze geavanceerde systemen 30.000 wafers verwerkte in slechts één kwartaal.

Vorig jaar was Intel de eerste in de industrie die de High-NA Twinscan EXE:5000 EUV-lithografiemachines ontving en ze installeerde in zijn D1 ontwikkelingsfaciliteit in de buurt van Hillsboro, Oregon. Hoewel ASML deze machines beschouwt als preproductietools - nog niet gebouwd voor massaproductie - zijn de eerste resultaten van Intel behoorlijk bemoedigend.

Deze snelle adoptie markeert een opmerkelijke strategische verschuiving voor Intel. In het verleden liep Intel achter op de concurrentie toen het ging om het uitrollen van de eerdere generatie extreem ultraviolet lithografiemachines, en duurde het maar liefst zeven jaar voordat ze in productie werden genomen. Die vertraging was een van de factoren waardoor Intel zijn productievoorsprong verloor aan TSMC.

De nieuwe High-NA machines brengen enkele belangrijke technische voordelen met zich mee. Ze kunnen resoluties tot 8 nm bereiken in één enkele belichting, een verbetering ten opzichte van de 13,5 nm resolutie van de oudere Low-NA systemen. Dit betekent dat taken waarvoor vroeger drie belichtingen en ongeveer 40 verwerkingsstappen nodig waren, nu met slechts één belichting en slechts een handvol stappen kunnen worden uitgevoerd.

Op dit moment test Intel deze High-NA gereedschappen met zijn 18A productietechnologie, met plannen om ze in volledige productie te nemen naast zijn aankomende 14A (of 1,4nm-klasse) technologie. Ze hebben later dit jaar al massaproductie gepland van een nieuwe generatie PC-chips met de 18A-technologie, maar de uitrol voor 14A is nog niet bekend.

Bron(nen)

Reuters (in het Engels)

Please share our article, every link counts!
Mail Logo
> Overzichten en testrapporten over laptops en mobieltjes > Nieuws > Nieuws Archief > Nieuws archieven 2025 02 > Intel verwerkt 30.000 wafers met nieuwe High-NA EUV-lithografiemachines
Nathan Ali, 2025-02-27 (Update: 2025-02-27)