Corning Extreem ULE-glas: Nieuwe standaard voor EUV-lithografie met ongeëvenaarde thermische stabiliteit

Corning heeft zojuist een nieuw een nieuw materiaal met ultralage expansie (ULE) op de markt gebracht, dat geschikt is voor het toenemende vermogen van de komende EUV-lithografiesystemen met laag-NA en hoog-NA. Dit glimmende nieuwe Extreme ULE-glas is klaar om gebruikt te worden voor de volgende generatie fotomaskers en lithografische spiegels in toekomstige fab-tools.

De belangrijkste eigenschap van Extreme ULE is de uitzonderlijk lage thermische uitzetting, wat zorgt voor een uitzonderlijke consistentie voor het gebruik van fotomaskers. Bovendien is het echt vlak, wat helpt tegen die vervelende "golving" van het fotomasker en ongewenste variaties in de chipproductie vermindert. Deze eigenschappen betekenen dat we geavanceerde pellicles en fotomaskers kunnen gebruiken om de opbrengst en prestaties te verhogen.

EUV-lithografiesystemen gebruiken een plasmabron om superintens EUV-licht te creëren, dat ook veel warmte produceert. Het grootste deel van die warmte blijft echter in de bronkamer, los van het fotomasker. Het EUV-licht wordt dan op het fotomasker gericht via mooie lithografische spiegels, maar die spiegels kunnen gevoelig zijn voor hitte.

De fotomaskers zijn gemaakt van meerlaagse reflecterende materialen die ontworpen zijn om EUV-straling heel goed terug te kaatsen. Ze reflecteren heel goed, maar ze absorberen nog steeds een klein beetje van dat EUV-licht, wat betekent dat het fotomasker een beetje extra thermisch belast wordt.

Als EUV-gereedschappen hun spel opvoeren en meer wafers per uur (WPH) verwerken, brengen ze een aantal krachtige lichtbronnen in. Dit betekent dat pellicles, fotomasks en fotomaskers te maken krijgen met hogere niveaus van EUV-straling en hitte. Het Extreme ULE-glas van Corning, dat voortbouwt op de klassieke ULE-familie, levert ongelooflijke thermische stabiliteit en uniformiteit, precies wat de volgende generatie EUV-gereedschappen met hoge-NA en binnenkort lage-NA nodig hebben.

"Aangezien de eisen van geïntegreerde chipfabricage toenemen met de opkomst van kunstmatige intelligentie, is glasinnovatie belangrijker dan ooit," zegt Claude Echahamian, Vice President & General Manager, Corning Advanced Optics. "Extreme ULE Glass zal de vitale rol van Corning in het voortdurende streven naar de Wet van Moore uitbreiden door te helpen EUV-productie met meer vermogen en een hogere opbrengst mogelijk te maken."